HMDS烘箱,晶圓涂膜HMDS真空烘箱系列電腦式HMDS真空烘箱主要應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓片光刻涂膠鍍膜前預(yù)處理,增黏劑HMDS涂覆作業(yè)。本設(shè)備適用于在涂膠前對(duì)晶片進(jìn)行預(yù)處理,集真空、烘烤、充氮、潔凈、HMDS加液多功能與一體。設(shè)備由箱體、真空、加熱、充氮、加液及控制等系統(tǒng)組成。通過(guò)多次預(yù)抽真空,充氮加熱循環(huán)進(jìn)行,既能達(dá)到使硅片表面干燥、潔凈的效果,又能夠有效的防止硅片的氧化和雜質(zhì)的擴(kuò)散,并且可以通過(guò)加液系統(tǒng)在硅片表面開(kāi)成HDMS保護(hù)膜,從而使硅片具有良好的涂膠性能。和手工涂布HMDS相比,具有重復(fù)性好,節(jié)省藥液,環(huán)保,對(duì)人體無(wú)害的顯著優(yōu)點(diǎn);也可用于晶片其它工藝的清洗。
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HMDS烘箱,晶圓涂膜HMDS真空烘箱系列電腦式HMDS真空烘箱主要應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓片光刻涂膠鍍膜前預(yù)處理,增黏劑HMDS涂覆作業(yè)。本設(shè)備適用于在涂膠前對(duì)晶片進(jìn)行預(yù)處理,集真空、烘烤、充氮、潔凈、HMDS加液多功能與一體。設(shè)備由箱體、真空、加熱、充氮、加液及控制等系統(tǒng)組成。通過(guò)多次預(yù)抽真空,充氮加熱循環(huán)進(jìn)行,既能達(dá)到使硅片表面干燥、潔凈的效果,又能夠有效的防止硅片的氧化和雜質(zhì)的擴(kuò)散,并且可以通過(guò)加液系統(tǒng)在硅片表面開(kāi)成HDMS保護(hù)膜,從而使硅片具有良好的涂膠性能。和手工涂布HMDS相比,具有重復(fù)性好,節(jié)省藥液,環(huán)保,對(duì)人體無(wú)害的顯著優(yōu)點(diǎn);也可用于晶片其它工藝的清洗。